低溫等離子體光催化降解印刷廢氣

中心進行提示：印刷企業廢氣是由粉塵、油墨稀釋劑及涂膠廢氣主要組成，所以我們針對印刷廠廢氣的治理問題須要通過綜合收拾。工業廢氣處理專門針對工業場所如工廠、車間、生產線，產生的廢氣在對外排放前進行預處理，以達到國家廢氣對外排放的標準的工作。一般工業廢氣處理包括了有機廢氣處理、粉塵廢氣處理、酸堿廢氣處理、惡臭氣體處理、異味廢氣處理和空氣殺菌消毒凈化等方面。廢氣處理設備廠家直接吸附法：有機廢氣經活性炭吸附，可達95%以上的凈化率，設備簡單、投資小，但活性炭更換頻繁，增加了裝卸、運輸、更換等工作程序，導致運行費用增加。有機廢氣處理有機廢氣處理特點：有機廢氣一般都存在易燃易爆、有毒有害、不溶于水、溶于有機溶劑、處理難度大的特點。在有機廢氣處理時普遍采用的是有機廢氣活性炭吸附處理法、催化燃燒法、催化氧化法、酸堿中和法、等離子法等多種原理。江蘇廢氣處理技術設備管理有限責任公司可以針對中國印刷廢氣采取不同低溫等離子體光催化與沾染技巧，高效脫除廢氣中的粉塵跟裂解三笨廢氣，終極廢氣產物為二氧化碳跟水汽，不產生影響二次沾染。

印刷廢氣由粉塵、油墨稀釋劑和膠水廢氣組成，對印刷車間廢氣進行凈化是十分必要的。 江蘇廢氣處理設備有限公司采用低溫等離子體光催化和污染技術對印刷廢氣進行處理，有效去除粉塵和裂解廢氣，最終廢氣產物為二氧化碳和水蒸氣。 無二次污染發生。 低溫等離子體光催化協同污染技術將低溫等離子體的上風向與光催化技術有機地結合在一起，相互配合、互補，充分利用等離子體場產生的紫外光，是一種非常有效、節能的處理印刷廢氣的方法。

以下過程對于等離子體光催化中有機化合物的氧化降解非常重要:

1. 高能電子的作用產生高度氧化性的自由基

　　O、O

　　H、HO2。

2、有機物進行分子結構受到高能電子信息碰撞，被激發及原子鍵斷裂問題形成小碎片基團或原子。

3、

　　O、O

H、HO2與一系列自由基如激發的原子有機分子、斷裂的分子基團和自由基反應。

等離子體中的離子，電子，激發的原子，分子和自由基都是極易反應的物種，在快速反應的前提下，反應通常很難或很慢進行，它們進一步與污染分子和離子反應，降解污染物，特別是有利于處理難處理的污染物。

另外，由于活性離子與自由基氣體共同放電時，一些高能激發的粒子會產生紫外光，當光子或電子的能量大于半導體的間隙寬度時，半導體中的電子會被激發，從價帶到導帶的躍遷導致高反應電子空穴對的形成，進而引起一系列氧化還原反應。光致空穴具有較強的獲得電子能力，并與理論上吸附的氧和水反應生成羥基自由基，進一步氧化污染物。由于等離子體放電光催化過程中有大量的高能電子撞擊、活性粒子、紫外線輻射等綜合因素，因此可以更快、更有效地分解空氣中的有害物質和殺菌除臭。

等離子體光催化它聚集了等離子跟光催化的優點，上風互補，而且通過兩者相互之間發展可能可以起到一個協同管理作用，克服企業雙方公司存在的毛病，彼此能夠增進，因此對空氣沾染物存在技術精良的去除后果。等離子體光催化技巧方面存在沾染效力高、能耗低、適應性廣、光催化劑進行主動參與活化等優點，在去除印刷工業廢氣中顯示十分好的后果。

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